纳拓半导体取得半导体真空腔室密封圈生产装置专利，解决了密封圈成形慢的问题
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2026-04-04 07:49:14
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国家知识产权局信息显示，纳拓半导体科技（上海）有限公司取得一项名为“一种半导体真空腔室密封圈生产装置”的专利，授权公告号CN224074957U，申请日期为2025年4月。
专利摘要显示，本实用新型涉及密封圈技术领域，提出了一种半导体真空腔室密封圈生产装置，包括基座，所述基座的顶部固定连接有支撑架，所述支撑架的内侧面固定连接有物料挤出设备，所述基座的顶部设置有冷却装置，所述固定板的底部固定连接在基座的顶部上，所述固定板的侧面固定连接有电机，所述电机的输出轴固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆的圆周面螺纹连接有螺纹套，所述螺纹套的圆周面固定连接有推杆，所述推杆的侧面固定连接有推板，所述基座的顶部滑动连接有成形槽块，所述基座的固定连接有冷却箱，所述冷却箱的顶部固定连接有温度调控面板。通过上述技术方案，解决了现有技术中的密封圈成形慢的问题。
天眼查资料显示，纳拓半导体科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，纳拓半导体科技（上海）有限公司财产线索方面有商标信息4条，专利信息14条，此外企业还拥有行政许可1个。
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来源：市场资讯
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