吉利申请半导体用氢氟酸制备相关专利 提高成品制备效率
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2025-06-02 21:32:53
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金融界2025年6月2日消息，国家知识产权局信息显示，西安吉利电子新材料股份有限公司;陕西吉利科技有限公司申请一项名为“一种半导体用氢氟酸的制备方法及装置”的专利，公开号CN120057860A，申请日期为2025年02月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体用氢氟酸的制备方法及装置，属于氢氟酸制备技术领域。半导体用氢氟酸的制备方法，包括如下步骤：将工业无水氟化氢经过除砷处理，得到初步净化的氟化氢；将除砷后的氟化氢进行粗馏，分离低沸点和高沸点杂质，得到氟化氢气体；将所述氟化氢气体通入高纯水中进行吸收，得到氢氟酸溶液，高纯水的电阻率大于18MΩ·cm，且通过离子交换和超滤预处理；对所述氢氟酸溶液进行精馏，去除挥发性杂质和重金属离子；将精馏后的氢氟酸溶液通过多级过滤系统进行过滤，去除颗粒物和残留金属离子，得到电子级氢氟酸，本发明对电子级氢氟酸的制备方法及工艺进行优化，确保成品质量符合电子级标准，同时提高成品制备效率。
来源：金融界
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