金融界2025年6月13日消息,国家知识产权局信息显示,爱思开海力士有限公司申请一项名为“半导体存储器装置”的专利,公开号CN120152290A,申请日期为2021年09月。
专利摘要显示,本文提供一种半导体存储器装置。该半导体存储器装置包括:堆叠体,该堆叠体包括交替堆叠的导电图案和层间绝缘层;穿过堆叠体的下部沟道部分;设置在堆叠体和下部沟道部分之间的存储器层;设置在下部沟道部分上的上部沟道部分;围绕上部沟道部分的侧壁的栅极绝缘层;围绕栅极绝缘层的侧壁的第一栅极图案;接触第一栅极图案的第一部分的分离绝缘图案;以及接触第一栅极图案的第二部分的第二栅极图案。
来源:金融界