北方华创申请一种半导体工艺设备专利，有助于提高工艺腔内晶圆表面成膜厚度的均匀性和一致性
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2025-06-14 13:37:40
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金融界2025年6月14日消息，国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“一种半导体工艺设备”的专利，公开号CN120149141A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本发明提供一种半导体工艺设备，涉及半导体制造设备的技术领域。该设备包括连通的等离子体生成腔和工艺腔，等离子体生成腔内设置有功率电极和接地电极，接地电极接地；功率电极沿其高度方向间隔设有多个第一端子，多个第一端子并联且每个第一端子均能够与射频电源选择性地电连接或断开。该设备，通过使不同位置或者不同数量的第一端子与射频电源连接，即可调节射频电源在功率电极的馈入位置，从而优化功率电极和接地电极间的电场分布，进而使等离子体的分布更加均匀，最终提高不同位置的晶圆的成膜厚度的均匀性和一致性。即，该设备采用可调节射频电源馈入位置的功率电极，有助于提高工艺腔内晶圆表面成膜厚度的均匀性和一致性。
天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1068次，财产线索方面有商标信息66条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。
来源：金融界
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