中芯国际申请半导体结构及其形成方法专利,增加器件设计的灵活性
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2025-07-23 12:39:57
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金融界2025年7月23日消息,国家知识产权局信息显示,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司、中芯京城集成电路制造(北京)有限公司、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请一项名为“半导体结构及其形成方法”的专利,公开号CN120358792A,申请日期为2024年01月。

专利摘要显示,一种半导体结构及其形成方法,其中半导体结构包括:衬底,衬底包括:基底、位于基底表面的绝缘层、以及位于绝缘层表面的半导体层,半导体层包括沟道区;位于半导体层内且位于绝缘层表面的栅极结构,栅极结构与沟道区侧壁相接触,且栅极结构与沟道区沿平行于基底表面的第一方向排布;位于半导体层内且位于绝缘层表面的源漏掺杂层,源漏掺杂层分别与沟道区相对两侧的侧壁相接触,且源漏掺杂层与沟道区沿平行于基底表面的第二方向排布,第二方向与第一方向不同;后续形成插塞将栅极、源极和漏极引出的时候,不需要像传统工艺一样将部分的绝缘层去除,增加器件设计的灵活性,同时缩小器件区域面积,降低制备成本和周期,具有较广泛的适用范围。

天眼查资料显示,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,成立于2002年,位于北京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目52次,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可226个。

中芯京城集成电路制造(北京)有限公司,成立于2020年,位于北京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯京城集成电路制造(北京)有限公司参与招投标项目35次,专利信息16条,此外企业还拥有行政许可248个。

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,成立于2000年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目127次,财产线索方面有商标信息150条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可451个。

来源:金融界

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