宏图半导体申请集成电路制造用特气系统专利，提升集成电路制造效率
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2025-08-02 15:41:05
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金融界2025年8月2日消息，国家知识产权局信息显示，宏图（苏州工业园区）半导体技术服务有限公司申请一项名为“一种集成电路制造用特气系统”的专利，公开号CN120393593A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明属于集成电路制造技术领域，尤其是一种集成电路制造用特气系统，现提出如下方案，包括特气系统主体、主管以及副管，所述主管与副管连接端均安装有安装座；本发明通过设置有主管、副管以及球阀，有害气体以及粉尘通过球阀进入主管内部，然后进入特气系统主体内部，有害气体以及粉尘通过主管流动一定时间后，转动两组球阀，使得主管两端闭合，副管两端分别与主管两端接通，有害气体以及粉尘通过主管一端进入副管内部，然后有害气体通过副管进入主管另一端，之后有害气体进入特气系统主体内部，有害气体更换副管进行流通，工作人员将主管内部的粉尘进行清理，避免特气系统受管道清理而关闭，提升了集成电路制造效率。
天眼查资料显示，宏图（苏州工业园区）半导体技术服务有限公司，成立于2004年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，宏图（苏州工业园区）半导体技术服务有限公司参与招投标项目1次，专利信息16条，此外企业还拥有行政许可2个。
来源：金融界
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