有为图像申请超表面芯片光学检测方法专利，检测成本可控
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2025-05-25 16:36:07
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金融界2025年5月24日消息，国家知识产权局信息显示，有为图像技术（苏州）有限公司申请一项名为“一种超表面芯片光学检测方法”的专利，公开号CN120028293A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，一种超表面芯片光学检测方法，包括：光学检测光路的搭建机及同心轴调整、功率‑光斑灰度的关系标定、产品光学检测过程中光斑灰度的采集及拟合分析、透光率计算及发散角分析、对比判断；该过程中功率计感应出光侧的光功率、CCD相机采集光斑信息并将其转化为电信息后经过后台信息处理单元拟合分析得到两者之间存在线性关系，再根据该线性关系计算出检测值值。
天眼查资料显示，有为图像技术（苏州）有限公司，成立于2022年，位于苏州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1294.382万人民币。通过天眼查大数据分析，有为图像技术（苏州）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目5次，专利信息10条，此外企业还拥有行政许可4个。
来源：金融界
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