国家知识产权局信息显示,浙江创芯集成电路有限公司取得一项名为“半导体处理装置”的专利,授权公告号CN223844214U,申请日期为2024年12月。
专利摘要显示,本申请提供一种半导体处理装置,包括:定位结构;第一传输结构;以及清洁单元,位于定位结构和第一传输结构之间;其中,清洁单元包括:离子风吹气结构和吸气结构,离子风吹气结构用于给半导体结构吹扫离子风,吸气结构用于将半导体结构表面掉落的颗粒吸附进吸气结构。半导体处理装置能提高对半导体结构表面的颗粒的清洁程度。
天眼查资料显示,浙江创芯集成电路有限公司,成立于2020年,位于杭州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本182000万人民币。通过天眼查大数据分析,浙江创芯集成电路有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目274次,财产线索方面有商标信息14条,专利信息543条,此外企业还拥有行政许可7个。
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来源:市场资讯