中微半导体取得纵长形反应腔体及其化学气相沉积装置专利
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2026-02-10 18:23:18
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国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司取得一项名为“一种纵长形反应腔体及其化学气相沉积装置”的专利，授权公告号CN116926506B，申请日期为2022年4月。
天眼查资料显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2004年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本62614.5307万人民币。通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目78次，财产线索方面有商标信息76条，专利信息1635条，此外企业还拥有行政许可77个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
来源：市场资讯
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