长飞先进半导体申请晶圆膜层色差检测方法专利，实现了对待检测晶圆膜层的精准色差检测
创始人
2026-02-26 21:41:01
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国家知识产权局信息显示，长飞先进半导体（武汉）有限公司申请一项名为“一种晶圆膜层的色差检测方法”的专利，公开号CN121558646A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请公开了一种晶圆膜层的色差检测方法，晶圆膜层的色差检测方法包括：根据待检测晶圆的膜层特征确定第一光源和第二光源；其中，待检测晶圆膜层对第一光源的吸收能力与待检测晶圆膜层对第二光源的吸收能力不同；通过第一光源和第二光源分别扫描待检测晶圆；确定第一光源扫描下待检测晶圆膜层的第一灰阶数据以及第二光源扫描下待检测晶圆膜层的第二灰阶数据；根据第一灰阶数据和第二灰阶数据对待检测晶圆膜层进行色差检测。本申请实现了对待检测晶圆膜层的精准色差检测。
天眼查资料显示，长飞先进半导体（武汉）有限公司，成立于2022年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本360000万人民币。通过天眼查大数据分析，长飞先进半导体（武汉）有限公司参与招投标项目42次，专利信息114条，此外企业还拥有行政许可62个。
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来源：市场资讯
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