埃科光电申请基于光谱共焦的静态对焦装置专利，提高对焦精度和对焦效率
创始人
2026-03-28 18:39:33
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国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“基于光谱共焦的静态对焦装置、方法、电子设备和介质”的专利，公开号CN121742003A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本申请公开了一种基于光谱共焦的静态对焦装置、方法、电子设备和介质，涉及自动对焦领域。装置包括：显微成像模块；第一光谱共焦模块，在图像帧视场覆盖待测区域之前，获取高度信息；第二光谱共焦模块，在图像帧视场覆盖待测区域时，检测出离焦量；其中，第二光谱共焦模块的轴向测量范围低于第一光谱共焦模块，轴向测量精度高于第一光谱共焦模块；处理器，用于在显微物镜的图像帧视场覆盖待测区域之前，以第一光谱共焦模块为标定物，根据高度信息在图像帧视场覆盖待测区域之前调整第一距离，以及在图像帧视场覆盖待测区域时，根据离焦量调节第一距离，以使待测区域处于景深范围内。由此，在保证轴向检测范围的基础上，提高对焦精度和对焦效率。
天眼查资料显示，合肥埃科光电科技股份有限公司，成立于2011年，位于合肥市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6800万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息395条，此外企业还拥有行政许可14个。
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来源：市场资讯
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