兆驰集成申请发光二极管外延片及其制备方法专利，可提升发光效率_电子百科

兆驰集成申请发光二极管外延片及其制备方法专利，可提升发光效率

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2026-03-31 19:17:20

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国家知识产权局信息显示，江西兆驰集成科技有限公司;江西兆驰半导体有限公司申请一项名为“发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管”的专利，公开号CN121772425A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管，涉及半导体光电器件领域。其中，发光二极管外延片包括衬底，依次层叠于衬底上的缓冲层、非掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱层、末阱层、末垒层、空穴输运层、电子阻挡层和P型GaN层；其中，所述末垒层包括依次层叠的AlN层和AlGaN层；所述空穴输运层包括交替层叠的低温Mg掺GaN层和Mg掺AlGaN层；所述电子阻挡层包括交替层叠的P型BGaN层和P型AlGaN层。实施本发明，可提升发光效率。

天眼查资料显示，江西兆驰集成科技有限公司，成立于2025年，位于南昌市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，江西兆驰集成科技有限公司参与招投标项目3次，专利信息28条。

江西兆驰半导体有限公司，成立于2017年，位于南昌市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本160000万人民币。通过天眼查大数据分析，江西兆驰半导体有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目19次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息1618条，此外企业还拥有行政许可61个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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