方唯成半导体申请氮化镓多晶圆片自动研磨设备专利，可同时对多片氮化镓多晶圆片进行研磨操作
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2025-07-17 02:37:42
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金融界2025年7月16日消息，国家知识产权局信息显示，珠海方唯成半导体材料有限责任公司申请一项名为“一种氮化镓多晶圆片用自动研磨设备”的专利，公开号CN120307194A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明公开了一种氮化镓多晶圆片用自动研磨设备，涉及研磨设备技术领域，包括底座，所述底座的上端中间设置有研磨台，所述研磨台的上端设置有四组旋转台，四组所述旋转台的下端在研磨台的内部均设置有一组旋转轴，每组所述旋转轴的下端均设置有从动齿轮，四组所述从动齿轮的侧壁之间设置有一组主动齿轮，所述主动齿轮分别与四组从动齿轮啮合，所述主动齿轮的下端设置有一号电机，所述底座的上端四角均设置有一组支撑柱，四组所述支撑柱的上端设置有顶板，四组所述支撑柱的外壁均设置有一组滑动套。
天眼查资料显示，珠海方唯成半导体材料有限责任公司，成立于2022年，位于珠海市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，珠海方唯成半导体材料有限责任公司参与招投标项目8次，专利信息3条，此外企业还拥有行政许可12个。
来源：金融界
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