盛美半导体取得半导体基板湿法刻蚀方法专利
创始人
2025-07-23 12:39:34
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金融界2025年7月23日消息，国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司取得一项名为“半导体基板的湿法刻蚀方法”的专利，授权公告号CN112530797B，申请日期为2019年09月。

天眼查资料显示，盛美半导体设备(上海)股份有限公司，成立于2005年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本44129.1188万人民币。通过天眼查大数据分析，盛美半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了17家企业，参与招投标项目167次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息579条，此外企业还拥有行政许可30个。

来源：金融界

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