四川珂玛申请半导体产品刻蚀用清洗设备专利，提高工作效率
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2025-08-06 15:40:04
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金融界2025年8月6日消息，国家知识产权局信息显示，四川珂玛材料技术有限公司申请一项名为“一种半导体产品刻蚀用清洗设备”的专利，公开号CN120432409A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体生产设备技术领域，公开了一种半导体产品刻蚀用清洗设备，包括：进料输送机构、出料输送机构、清洗槽、转运机构和烘干机构，进料输送机构用于对半导体产品进行进料输送，出料输送机构用于对半导体产品进行出料输送，清洗槽位于进料输送机构与出料输送机构之间，用于对半导体产品进行清洗，转运机构位于进料输送机构与出料输送机构之间，用于将半导体产品在进料输送机构、清洗槽和出料输送机构之间移动，烘干机构与出料输送机构连接，用于烘干清洗后的半导体产品。本发明通过转运机构将半导体产品从进料输送机构上进行转运并清洗时，清洗后的半导体产品位于烘干机构中烘干，保证了清洗效率与烘干效率相应匹配，提高了工作效率。
天眼查资料显示，四川珂玛材料技术有限公司，成立于2017年，位于成都市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本9000万人民币。通过天眼查大数据分析，四川珂玛材料技术有限公司参与招投标项目8次，专利信息25条，此外企业还拥有行政许可18个。
来源：金融界
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