杭州芯迈半导体申请半导体器件终端结构专利 减弱封装对钝化层剪切力
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2025-06-08 00:36:20
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金融界2025年6月7日消息,国家知识产权局信息显示,杭州芯迈半导体技术有限公司申请一项名为“一种半导体器件的终端结构”的专利,公开号CN120109096A,申请日期为2025年03月。

专利摘要显示,本申请公开了一种半导体器件的终端结构,包括半导体层、多晶硅层、第一绝缘层、金属层和钝化层。多晶硅层部分覆盖半导体层第一表面。第一绝缘层覆盖多晶硅层。金属层覆盖第一绝缘层和多晶硅层。金属层的边缘在半导体层第一表面上形成至少两级台阶。该至少两级台阶包括最高台阶和最低台阶。钝化层覆盖于未被金属层覆盖的半导体层第一表面,并延伸覆盖金属层的最低台阶的部分区域。本申请半导体器件的终端结构,通过调整金属层下方各层的结构,使金属层形成台阶,并将钝化层的边缘落在金属层的最低台阶或中间台阶上,使钝化层的最高高度低于金属层的最高高度,从而减弱封装对钝化层的剪切力,降低钝化层产生裂纹的风险。

天眼查资料显示,杭州芯迈半导体技术有限公司,成立于2019年,位于杭州市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2707.9992万人民币。通过天眼查大数据分析,杭州芯迈半导体技术有限公司共对外投资了7家企业,参与招投标项目1次,财产线索方面有商标信息22条,专利信息147条,此外企业还拥有行政许可8个。

来源:金融界

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