芜湖映日科技申请新型氧化铟锡靶材及其制备方法专利，有效降低二次相电阻率
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2025-07-12 20:09:10
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金融界2025年7月12日消息，国家知识产权局信息显示，芜湖映日科技股份有限公司申请一项名为“一种低结瘤高薄膜良率的新型氧化铟锡靶材及其制备方法”的专利，公开号CN120289173A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明涉及靶材技术领域，具体涉及一种低结瘤高薄膜良率的新型氧化铟锡靶材及其制备方法。该靶材通过复合掺杂氧化镓和氧化钴，结合多阶段控气氛烧结工艺制备而成。本发明通过氧化镓和氧化钴的协同掺杂，结合梯度烧结工艺，有效降低二次相电阻率，实现晶粒尺寸细化，使靶材导电性大大提升，磁控溅射结瘤发生率大大降低，有效减少了薄膜蚀刻残砂率，所制备的薄膜的可见光透过率提高至91.44％，适用于触摸屏、显示器和太阳能电池等领域。
天眼查资料显示，芜湖映日科技股份有限公司，成立于2015年，位于芜湖市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本8940.0276万人民币。通过天眼查大数据分析，芜湖映日科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目18次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息183条，此外企业还拥有行政许可37个。
来源：金融界
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