三星显示申请沉积掩模及制造方法专利，提升电子装置制造精度
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2026-04-04 18:59:10
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国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模、用于制造沉积掩模的方法和电子装置”的专利，公开号CN121793619A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，公开了一种沉积掩模、一种用于制造沉积掩模的方法和一种电子装置。沉积掩模包括：掩模基底，定位为围绕掩模开口；涂覆膜，设置在掩模基底上并且包括无机材料；以及掩模图案，定位在与掩模开口重叠的部分中，并且掩模图案与涂覆膜间隔开，孔图案介于掩模图案与涂覆膜之间。掩模图案包括：顶表面；底表面，与顶表面背对并且面对掩模开口；和侧表面，将顶表面和底表面彼此连接并且面对孔图案，并且由顶表面和侧表面形成的第一倾斜角小于由底表面和侧表面形成的第二倾斜角。
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来源：市场资讯
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