京东方华灿光电申请改善制程稳定性发光二极管及其制备方法专利，改善制程稳定性
创始人
2026-06-23 15:59:13
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国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（广东）有限公司申请一项名为“改善制程稳定性发光二极管及其制备方法”的专利，公开号CN122269887A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本公开提供了一种改善制程稳定性发光二极管及其制备方法，属于光电子制造技术领域。该制备方法包括：在衬底上生长外延层；在所述外延层的远离所述衬底的表面上依次形成透明导电层和阻挡层；在所述阻挡层的表面形成掩膜版，并通过所述掩膜版刻蚀所述阻挡层，以形成露出所述透明导电层的腐蚀窗口；通过所述腐蚀窗口对所述透明导电层进行湿法腐蚀，形成图形化的所述透明导电层。本公开实施例能降低微型发光二极管上制备透明导电层的难度，改善制程稳定性。
天眼查资料显示，京东方华灿光电（广东）有限公司，成立于2022年，位于珠海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本186000万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（广东）有限公司参与招投标项目31次，专利信息150条，此外企业还拥有行政许可111个。
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来源：市场资讯
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