上海集成电路制造创新中心申请隧穿磁阻传感电路专利,使得隧穿磁阻传感器不易受温度影响而产生测量偏差
创始人
2025-06-03 21:34:39
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金融界2025年6月3日消息,国家知识产权局信息显示,上海集成电路制造创新中心有限公司申请一项名为“一种隧穿磁阻传感电路”的专利,公开号CN120085231A,申请日期为2025年03月。

专利摘要显示,本发明提供一种隧穿磁阻传感电路,包括:带隙基准电路提供参考电压;运算跨导放大器的两个输入端分别接入参考电压和MOS管的源极,输出端与MOS管的栅极相连,以对MOS管源极输出的偏置电流进行负反馈;MOS管的漏极接入电源电压,源极与隧穿磁阻传感器相连以对隧穿磁阻传感器提供偏置电流;改变参考电压以改变偏置电流的温度系数。通过带隙基准电路、运算跨导放大器和MOS管提供具有一定温度系数的偏置电流,对隧穿磁阻传感器的灵敏度温度系数进行补偿,使得隧穿磁阻传感器不易受温度影响而产生测量偏差,从而能较好地应用于宽工作温度范围、高精度需求的应用场景,解决了现有隧穿磁阻传感器容易受温度影响而产生测量偏差的问题。

天眼查资料显示,上海集成电路制造创新中心有限公司,成立于2018年,位于上海市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析,上海集成电路制造创新中心有限公司参与招投标项目162次,专利信息225条,此外企业还拥有行政许可4个。

来源:金融界

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