上海为旌半导体申请色带生成相关专利，简化用户色带配置过程
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2025-06-04 22:04:22
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金融界2025年6月4日消息，国家知识产权局信息显示，上海为旌半导体有限公司申请一项名为“色带生成方法、装置及存储介质”的专利，公开号CN120091200A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本申请公开了一种色带生成方法、装置及存储介质。方法包括：获取色带的风格参数，风格参数基于图像上色需求确定，包括：色温参数、第一色彩程度参数和第二色彩程度参数；基于风格参数确定色带的第一颜色组和第二颜色组；基于预设色温风格曲线、第一颜色组和第二颜色组，确定第一色带组和第二色带组中的第一色彩参数和第二色彩参数；基于色温参数、第一色彩参数和第二色彩参数，确定第一色带组和第二色带组中的第三色彩参数，基于第一色带组和第二色带组，通过线性插值确定多个第三色带组。
天眼查资料显示，上海为旌半导体有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海为旌半导体有限公司专利信息13条，此外企业还拥有行政许可1个。
来源：金融界
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