光本位科技申请提高EAM调制效率的电吸收调制器专利，降低电吸收调制器的工作电压要求
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2025-06-13 16:08:45
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金融界2025年6月13日消息，国家知识产权局信息显示，光本位科技（苏州）有限公司申请一项名为“一种电吸收调制器及提高EAM调制效率的方法”的专利，公开号 CN120143484A，申请日期为 2025年04月。
专利摘要显示，本发明属于半导体光电子器件技术领域，尤其涉及一种电吸收调制器及提高EAM调制效率的方法，该调制器包括硅衬底以及沉积在硅衬底上的绝缘层；所述绝缘层上设置有波导层；所述波导层上嵌设有锗吸收层；所述锗吸收层嵌入所述波导层的第一深度小于所述波导层的厚度，或者，所述锗吸收层嵌入所述波导层的第二深度大于或等于所述波导层的厚度；所述锗吸收层上设置有加热单元，与传统依赖高电场强度提升吸收系数的思路相反，本发明通过提供一种针对终点效应、实时反馈的热补偿机制，在保证锗吸收层的光吸收系数的同时，降低电吸收调制器的工作电压要求。
天眼查资料显示，光本位科技（苏州）有限公司，成立于2022年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本301.9786万人民币。通过天眼查大数据分析，光本位科技（苏州）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目4次，专利信息31条，此外企业还拥有行政许可6个。
来源：金融界
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