三河建华高科申请半导体晶圆厚度检测用转移装置专利,提高半导体晶圆厚度检测准确性
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2025-06-14 17:12:54
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金融界2025年6月14日消息,国家知识产权局信息显示,三河建华高科有限责任公司申请一项名为“一种半导体晶圆厚度检测用转移装置”的专利,公开号CN120149232A,申请日期为2025年03月。

专利摘要显示,本发明属于半导体晶圆专用设备技术领域,特别是涉及一种半导体晶圆厚度检测用转移装置,包括检测台,测厚单元包括固设在检测台上的支撑架和测厚仪,测厚仪安装在支撑架的水平架上;检测台上设置有检测筒,且检测筒位于测厚仪的正下方;检测台上设置有移动取件单元,移动取件单元用于将待检测的半导体晶圆从工位处转移到检测筒内;取件环上形成有缺口槽,并且取件环的内圈面安装有多个托举块,每个托举块上均安装有触点吸盘,取件环通过滑移支撑组件安装在检测台上;本发明能够提高半导体晶圆厚度检测的准确性,且由于多个触点吸盘是与待检测的晶圆片进行小面积吸附接触的,因此还不会对半导体晶圆片造成不必要的损坏或污染。

天眼查资料显示,三河建华高科有限责任公司,成立于2003年,位于廊坊市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本4200万人民币。通过天眼查大数据分析,三河建华高科有限责任公司参与招投标项目48次,专利信息92条,此外企业还拥有行政许可7个。

来源:金融界

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