金融界2025年6月17日消息,国家知识产权局信息显示,力晶积成电子制造股份有限公司申请一项名为“物理不可复制功能产生器及其制造方法”的专利,公开号CN120166762A,申请日期为2023年12月。
专利摘要显示,本发明公开一种物理不可复制功能产生器及其制造方法,其中该物理不可复制功能产生器包括基底、第一介电层与多个电容器结构。第一介电层位于基底上。至少一个电容器结构包括彼此并联的多个电容器。多个电容器包括第一电极层、多个插塞、多个第二介电层与第二电极层。第一电极层位于第一介电层与基底之间。多个插塞位于第一介电层中,且位于第一电极层上。多个第二介电层位于第一介电层中,且位于多个插塞与第一电极层之间。第二电极层位于第一介电层与多个插塞上,且电连接于多个插塞。多个电容器结构具有相同的预定电容值,且多个电容器结构中的至少两个具有不同的实际电容值。
来源:金融界