武汉万集光电等申请光芯片和光芯片的制备方法专利，将光学器件层中出射的探测光束向上反射_资源案例

武汉万集光电等申请光芯片和光芯片的制备方法专利，将光学器件层中出射的探测光束向上反射

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2025-06-22 17:07:15

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金融界2025年6月21日消息，国家知识产权局信息显示，武汉万集光电技术有限公司;联合微电子中心有限责任公司申请一项名为“光芯片和光芯片的制备方法”的专利，公开号CN120178411A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本申请公开了一种光芯片和光芯片的制备方法。其中，该光芯片包括：基板，和位于基板上方的基于SOI衬底中的顶硅层形成的光学器件结构层；其中，基于SOI衬底中的顶硅层形成的光学器件结构层，由下至上依次包括保护层、反射层、第一间隔层和光学器件层；其中，保护层，位于基板的上方，与基板固定连接；反射层，位于保护层上方，反射层包括反射结构，反射结构用于将光学器件层中出射的探测光束向上反射；第一间隔层，位于反射层上方，且覆盖反射层，用于间隔开反射层和光学器件层；光学器件层，位于第一间隔层上方，包括至少一个光学器件，用于出射探测光束；其中，基板与保护层是在基于SOI衬底中的顶硅层形成光学器件结构层后进行固定连接的。

天眼查资料显示，武汉万集光电技术有限公司，成立于2013年，位于武汉市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本6000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉万集光电技术有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目4次，专利信息874条，此外企业还拥有行政许可4个。

联合微电子中心有限责任公司，成立于2018年，位于重庆市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100000万人民币。通过天眼查大数据分析，联合微电子中心有限责任公司参与招投标项目662次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息314条，此外企业还拥有行政许可4个。

来源：金融界

企业中出信息器件探测光学芯片光束反射专利光芯片反射层基板

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