盛美半导体申请用于涂胶显影设备的喷嘴清洗装置和喷嘴清洗方法专利，加热降低喷嘴污染物粘附性
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2025-06-29 00:38:27
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金融界2025年6月28日消息，国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备(上海)股份有限公司、盛美半导体设备韩国有限公司、清芯科技有限公司申请一项名为“用于涂胶显影设备的喷嘴清洗装置和喷嘴清洗方法”的专利，公开号CN120205534A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本申请提供了一种用于涂胶显影设备的喷嘴清洗装置和喷嘴清洗方法。该喷嘴清洗装置包括：清洗槽，用于容纳清洗液；振动发生器，用于向所述清洗槽提供振动波；温度控制单元，用于控制所述清洗液的温度，被配置为：在清洗喷嘴的过程中，先加热所述清洗液，后冷却所述清洗液。采用本申请的涂胶显影设备的喷嘴清洗装置和喷嘴清洗方法，结合振动控制和温度控制两种方式，在清洗过程中来控制清洗液的振动以及温度，使得清洗液在振动的同时，先被快速加热再被快速降温，加热可以降低喷嘴上污染物的粘附性，辅助振动所带来的清洗效果，冷却则有助于顽固附着在喷嘴表面的污染物再次发生溃缩，进一步削弱其粘附性，从而脱落。
来源：金融界
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