液化空气取得用于蚀刻半导体结构的含氮化合物专利
创始人
2025-12-02 14:09:49
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国家知识产权局信息显示，乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司取得一项名为“用于蚀刻半导体结构的含氮化合物”的专利，授权公告号CN115394641B，申请日期为2016年8月。

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来源：市场资讯

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