SK海力士取得半导体装置制造方法专利
创始人
2026-01-23 12:10:44
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国家知识产权局信息显示，爱思开海力士有限公司取得一项名为“半导体装置的制造方法”的专利，授权公告号CN113990873B，申请日期为2021年3月。

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