荣芯半导体申请半导体结构的制作方法专利,避免栅电极侧壁的第一侧墙被侧掏
创始人
2026-03-04 20:42:32
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国家知识产权局信息显示,荣芯半导体(淮安)有限公司申请一项名为“半导体结构的制作方法”的专利,公开号CN121604492A,申请日期为2025年12月。

专利摘要显示,本申请提供一种半导体结构的制作方法。该制作方法包括:提供表面形成有栅极氧化层和栅电极的半导体基底;在半导体基底上形成第一侧墙材料层,第一侧墙材料层共形地覆盖半导体基底、栅电极和栅极氧化层;在第一侧墙材料层上形成第二侧墙,第二侧墙位于栅电极的侧壁;刻蚀第一侧墙材料层形成第一侧墙和牺牲部,第二侧墙覆盖第一侧墙,牺牲部暴露在第二侧墙远离栅电极的一侧;以及进行湿法清洗,牺牲部在湿法清洗过程中被消耗。这样利用牺牲部的消耗,可以避免栅电极侧壁的第一侧墙被侧掏,进而避免栅电极下方的栅极氧化层产生侧掏缺陷,且工艺的控制灵活度以及精度高。

天眼查资料显示,荣芯半导体(淮安)有限公司,成立于2021年,位于淮安市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本750000万人民币。通过天眼查大数据分析,荣芯半导体(淮安)有限公司参与招投标项目17次,专利信息53条,此外企业还拥有行政许可40个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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