晶至光电取得可减少晶体挥发的坩埚专利，可有效的减少晶体挥发
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2026-03-27 19:08:31
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国家知识产权局信息显示，福州晶至光电科技有限公司取得一项名为“一种可减少晶体挥发的坩埚”的专利，授权公告号CN224047577U，申请日期为2025年4月。
专利摘要显示，本实用新型公开了坩埚技术领域的一种可减少晶体挥发的坩埚，包括封装柱，所述封装柱的上下端均封盖有盖体，所述封装柱的内腔开设有若干组上下贯通的坩埚孔，下方所述盖体的内腔设置有位于封装柱下方的坩埚支撑盘，所述坩埚支撑盘的顶部开设有若干与坩埚孔数量相同的支撑孔，所述坩埚孔内放置有底部与支撑孔固定的坩埚主体；本实用新型通过坩埚主体上的塞子和封装柱两端盖体的双层式密封，可有效的减少晶体挥发，从而提升晶体结晶的质量和效率，可创造更多的企业收益。
天眼查资料显示，福州晶至光电科技有限公司，成立于2023年，位于福州市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1032.6万人民币。通过天眼查大数据分析，福州晶至光电科技有限公司财产线索方面有商标信息1条，专利信息4条，此外企业还拥有行政许可7个。
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来源：市场资讯
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