埃瑞微半导体申请套刻测量系统以及测量方法专利，显著提升测量效率
创始人
2026-03-30 13:02:49
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国家知识产权局信息显示，上海埃瑞微半导体设备有限责任公司申请一项名为“套刻测量系统以及测量方法”的专利，公开号CN121742139A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明涉及一种套刻测量系统以及测量方法，属于芯片制造的技术领域。它将干涉扫描测焦与双工业相机独立调焦成像相结合，套刻测量系统通过一次垂直扫描，利用干涉信号精确定位晶圆上不同光刻层的焦面，随后驱动两个相机同步至各自焦面的像面位置，从而实现对超过光学焦深的两层图形的一次性、同步高清成像与套刻误差计算，显著提升测量效率。
天眼查资料显示，上海埃瑞微半导体设备有限责任公司，成立于2023年，位于上海市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，上海埃瑞微半导体设备有限责任公司财产线索方面有商标信息7条，专利信息6条。
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来源：市场资讯
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