晶合集成获得发明专利授权：“一种半导体清洗液、制备方法与半导体结构的清洗方法”
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2025-06-04 05:34:19
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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种半导体清洗液、制备方法与半导体结构的清洗方法”，专利申请号为CN202510294266.X，授权日为2025年6月3日。
专利摘要：本发明提供一种半导体清洗液、制备方法与半导体结构的清洗方法，属于半导体制造技术领域。所述清洗液至少包括：溶剂；活性组分；以及添加剂，所述添加剂的通式为；其中，R1、R2和R3各自为甲基、乙基或丙基中的一种；所述清洗液的耐低温温度为‑10℃~‑22℃。通过本发明提供的一种半导体清洗液、制备方法与半导体结构的清洗方法，能够增强清洗效果，能够在低温条件下进行清洗，减少衬底或膜层的材料损失，避免材料损失对半导体制程的影响，提高半导体制程的良率。
今年以来晶合集成新获得专利授权156个，较去年同期增加了9.09%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了12.84亿元，同比增21.41%。
数据来源：天眼查APP
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