消息称三星半导体战略转向:外包低端光掩模,专注尖端光刻
创始人
2025-05-16 14:07:00
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IT之家 5 月 16 日消息,科技媒体 semimedia 昨日(5 月 15 日)发布博文,报道称三星电子计划将低端光掩模(photomask)生产外包,以腾出内部产能,专注于用于下一代存储芯片的先进光刻技术。

消息称三星正在评估 i-line(365nm)和 KrF(248nm)光掩模的潜在供应商,其中包括日本 Toppan Holdings 旗下的 Tekscend Photomask 和美国 Photronics 旗下的 PKL,评审工作预计将在今年第三季度完成。

三星电子为防止技术泄露,一直坚持自产所有光掩模,而内部设备的老化以及低端光掩模技术风险的降低,促使三星公司重新审视外包策略。

IT之家注:光掩模是半导体制造中不可或缺的部件,用于将电路图案转移到硅片上,其中 EUV(13.5nm)等短波长技术可实现更高分辨率,适用于尖端工艺,而 i-line 和 KrF 则主要支持成熟工艺节点。

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