上海积塔半导体申请半导体工艺监控结构及方法专利，实现对小尺寸栅电极短路桥接风险监控
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2025-05-16 19:07:54
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金融界2025年5月16日消息，国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司申请一项名为“半导体工艺监控结构及半导体工艺监控方法”的专利，公开号CN119993958A，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本发明涉及一种半导体工艺监控结构及半导体工艺监控方法。所述半导体工艺监控结构包括：测试结构，包括至少一个测试区域，所述测试区域至少包括沿第一方向间隔排布的第一测试行和第二测试行，所述第一测试行和所述第二测试行均包括沿第二方向间隔排布的多个晶体管，所述第一方向与所述第二方向垂直相交；输入结构，与所述第一测试行中多个所述晶体管的栅电极电连接；输出结构，与所述第二测试行中的多个所述晶体管的栅电极电连接；检测结构，连接所述输出结构，用于检测所述输出结构是否输出电流。本发明能够实现对小尺寸的栅电极之间短路桥接风险的监控，从而为半导体器件性能的提升以及半导体制造工艺的改进提供参考。
天眼查资料显示，上海积塔半导体有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1690740.3918万人民币。通过天眼查大数据分析，上海积塔半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1817次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息1090条，此外企业还拥有行政许可191个。
来源：金融界
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