杭州电子科技大学等申请二甲基二氢芘光致开关分子设计及性能提升专利，揭示反应机理
创始人
2025-07-01 22:09:44
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金融界2025年7月1日消息，国家知识产权局信息显示，杭州电子科技大学;杭州电子科技大学上虞科学与工程研究院有限公司申请一项名为“一种二甲基二氢芘光致开关分子的分子设计和非线性光学效应性能提升方法”的专利，公开号CN120236685A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明属于计算化学与分子材料设计领域，具体涉及一种二甲基二氢芘光致开关分子的分子设计和非线性光学效应性能提升方法；针对现有光开关分子效率低、非线性光学响应不足的问题，本发明通过将吡啶结构扭曲成三种拓扑构型，即休克尔型，莫比乌斯型，扭曲‑休克尔型，并将它们集成到二氢芘/环苯二烯(DHP/CPD)开关的两端。本发明利用密度泛函理论(DFT)优化其几何构型，揭示反应机理并分析三类开关分子在非线性光学性质上的差异性。研究发现，随着拓扑结构的改变，从Hückel。

来源：金融界

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