盛美半导体取得基板清洗装置及方法专利
创始人
2026-01-23 19:14:57
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国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司、盛美半导体设备韩国有限公司、清芯科技有限公司取得一项名为“基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备”的专利，授权公告号CN119909952B，申请日期为2024年4月。

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来源：市场资讯

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