屹东光学申请扫描电镜样品浸没模式下测试电子光学离焦量专利，无需预先了解扫描电镜系统的电子光学特性_电子百科

屹东光学申请扫描电镜样品浸没模式下测试电子光学离焦量专利，无需预先了解扫描电镜系统的电子光学特性

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2026-03-02 13:41:44

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国家知识产权局信息显示，屹东光学技术（苏州）有限公司申请一项名为“扫描电镜样品浸没模式下测试电子光学离焦量的实验方法”的专利，公开号CN121577667A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明提供扫描电镜样品浸没模式下测试电子光学离焦量的实验方法，该方法包括：在预设条件下采集图像，记录特定样品特征；对样品施加第一预设样品对地偏压，调整样品位置直至图像重新聚焦并定位到同一特征，根据特征尺寸的像素比例求得横向放大率；在预设条件下成像，移动样品并记录每次位移后重新聚焦图像所需的磁透镜电流变化值；对样品施加第一预设样品对地偏压，将磁透镜设置为记录的电流值，记录使样品重新聚焦所需的样品位移量，通过偏压前后样品位移量的线性拟合，得到纵向放大率；使用实验测得的横向放大率和纵向放大率，建立离焦量与样品位移的定量关系。无需预先了解扫描电镜系统的电子光学特性，对样品无特殊要求，且不涉及图像处理。

天眼查资料显示，屹东光学技术（苏州）有限公司，成立于2022年，位于苏州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本2782.078万人民币。通过天眼查大数据分析，屹东光学技术（苏州）有限公司参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息30条，此外企业还拥有行政许可7个。

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来源：市场资讯

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