国家知识产权局信息显示,上海韦尔半导体股份有限公司取得一项名为“一种MOSFET版图及MOSFET器件”的专利,授权公告号CN224083958U,申请日期为2025年2月。
专利摘要显示,本申请提供了一种MOSFET版图及MOSFET器件,第一源极金属区和源极金属连接区的交界处设置有第一电阻调节区;所述第二源极金属区和源极金属连接区的交界处设置有第二电阻调节区。本申请通过版图调整,在固定区域添加一个所述电阻调节区,形成一个源栅极电阻和源漏极电容的串联回路来吸收因为MOSFET体二极管反向恢复导致的Vds振荡电压。
天眼查资料显示,上海韦尔半导体股份有限公司,成立于2007年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本121442.6982万人民币。通过天眼查大数据分析,上海韦尔半导体股份有限公司共对外投资了46家企业,参与招投标项目9次,财产线索方面有商标信息33条,专利信息208条,此外企业还拥有行政许可15个。
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