珠海莫界科技申请近红外光敏引发体系等专利，高效引发单体聚合
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2025-05-15 10:52:25
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金融界2025年4月2日消息，国家知识产权局信息显示，珠海莫界科技有限公司申请一项名为“近红外光敏引发体系、全息记录介质及全息光学元件”的专利，公开号 CN 119739003 A ，申请日期为 2024 年 11 月。
专利摘要显示，本申请公开了一种近红外光敏引发体系、光致聚合物型全息记录介质、全息光学元件及显示设备，该光致聚合物型全息记录介质包括：成膜树脂、书写单体、近红外光敏引发体系、链转移剂、催化剂以及添加剂，所述成膜树脂包括具有多个异氰酸酯反应性官能团的化合物和多异氰酸酯基化合物，所述近红外光敏引发体系包括近红外光敏染料和助引发剂。通过这种方式，能够高效引发单体聚合，材料成本低，有效提高光致聚合物的全息记录性能。
天眼查资料显示，珠海莫界科技有限公司，成立于2021年，位于珠海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本725.5928万人民币，实缴资本264.4026万人民币。通过天眼查大数据分析，珠海莫界科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目8次，财产线索方面有商标信息32条，专利信息535条，此外企业还拥有行政许可29个。
来源：金融界
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