金融界2025年6月2日消息,国家知识产权局信息显示,国际商业机器公司申请一项名为“通过具有栅极固定的虚设栅极的局部VDD和VSS电源及相关联益处”的专利,公开号CN120077485A,申请日期为2023年07月。
专利摘要显示,一种集成电路结构包括形成在半导体晶片的背面的电源轨。集成电路结构还包括通过栅极连接到电源轨的正面BEOL导线层,其中栅极是由通过栅极从电源轨耦合到第一正面BEOL导线层的电源来断电的类型。一种形成集成电路结构的方法包括在半导体晶片的背面形成电源轨,在半导体晶片中形成栅极,以及形成通过栅极连接到电源轨的正面BEOL导线层。同样,栅极是由通过栅极从电源轨耦合到第一正面BEOL导线层的电源来断电的类型。
来源:金融界