金融界2025年6月11日消息,国家知识产权局信息显示,应用材料公司申请一项名为“脉冲电压等离子体处理设备及方法”的专利,公开号CN120129950A,申请日期为2023年01月。
专利摘要显示,本文提供的实施方式大抵包含产生在处理腔室中对基板进行等离子体处理波形的设备、等离子体处理系统与方法,波形经配置以调整提供至等离子体处理腔室中的电极或线圈的不对称电压波形的定时与特性,以改良对所产生等离子体的特性的控制,并控制在等离子体处理期间与基板表面互动的等离子体产生离子的离子能量分布。本文公开的方法和设备被配置为控制和维持在等离子体处理腔室的处理区域中形成的等离子体,而在处理期间不需要传输射频波形。同步和控制在施加到不同电极和/或线圈的每个脉冲电压波形中提供的电压脉冲的波形特性(例如脉冲周期期间的频率、电压波形部分斜率、波形形状和施加电压接通时间)的能力,允许改进控制产生的等离子体。
来源:金融界