思特威申请一种像素结构及图像传感器专利，有利于整体深槽隔离结构的深度控制_电子技术

思特威申请一种像素结构及图像传感器专利，有利于整体深槽隔离结构的深度控制

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2025-06-27 21:38:36

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金融界2025年6月27日消息，国家知识产权局信息显示，思特威（上海）电子科技股份有限公司申请一项名为“一种像素结构及图像传感器”的专利，公开号CN120224813A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本申请描述了一种像素结构，应用于图像传感器，像素结构包括：多个像素单元，按行、列周期性排布；深槽隔离结构，深槽隔离结构包括在像素结构中周期性分布的多个隔离单元，多个像素单元位于多个隔离单元限定的周期性重复结构内；其中，隔离单元至少包括相互之间具有间隙的第一隔离子单元和第二隔离子单元，第一隔离子单元的延伸方向途经第二隔离子单元的中点。本申请还提供一种图像传感器，包含上述像素结构。在本申请中，由于深槽隔离结构之间具有间隙，则不会由于深槽隔离结构的交叉使得关键尺寸变大而产生深槽隔离工艺部分区域蚀刻过深的问题，因此有利于整体深槽隔离结构的深度控制，避免了图像传感器的性能劣化问题。

天眼查资料显示，思特威（上海）电子科技股份有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本39971.2197万人民币。通过天眼查大数据分析，思特威（上海）电子科技股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目6次，财产线索方面有商标信息153条，专利信息591条，此外企业还拥有行政许可18个。

来源：金融界

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