北方华创申请半导体工艺设备及刻蚀方法专利，减少对晶圆表面的损伤
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2025-06-28 10:09:22
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金融界2025年6月28日消息，国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺设备以及刻蚀方法”的专利，公开号CN120221364A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本发明提供一种半导体工艺设备以及刻蚀方法。其中，设备包括等离子体激发装置和工艺腔室：其中，等离子体激发装置包括相互连通的第一子腔、第二子腔和分别与第一子腔和第二子腔连接的第一射频组件和第二射频组件。第一子腔与第一气源连通，第一气源能够向第一子腔输送第一工艺气体；第一射频组件用以将第一气源激发为第一等离子体；第二子腔与第二气源连通，第二气源能够向第二子腔输送第二工艺气体；第二射频组件用以对第二子腔内部的气体和/或第一等离子体进行激发，以使在第二子腔中反应并生成包含自由基的反应生成物。自由基能够与晶圆表面材料发生化学反应，以实现利用自由基对晶圆进行化学干法刻蚀，从而减少对晶圆表面的损伤。
天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1075次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。
来源：金融界
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