金融界2025年5月17日消息,国家知识产权局信息显示,福建省晋华集成电路有限公司取得一项名为“半导体结构”的专利,授权公告号CN222869293U,申请日期为2024年7月。
专利摘要显示,本公开涉及一种半导体结构。该半导体结构包括:目标层结构和导电结构。目标层结构包括至少一介质层,所述介质层内设有至少一沟槽。导电结构位于所述沟槽内,且与介质层直接接触。其中,与介质层直接接触的导电结构的底面具有最大表面粗糙度D1,与介质层直接接触的导电结构的侧面具有一最大表面粗糙度D2,所述最大表面粗糙度D1>所述最大表面粗糙度D2。本公开用于提升制程可靠性以及高密度集成存储器的电学性能。
天眼查资料显示,福建省晋华集成电路有限公司,成立于2016年,位于泉州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3447733.068816万人民币。通过天眼查大数据分析,福建省晋华集成电路有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目559次,财产线索方面有商标信息12条,专利信息927条,此外企业还拥有行政许可73个。
来源:金融界