鸿扬半导体申请半导体装置与其制造方法专利,降低半导体装置的电阻
创始人
2025-05-18 13:06:55
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金融界2025年4月2日消息,国家知识产权局信息显示,鸿扬半导体股份有限公司申请一项名为“半导体装置与其制造方法”的专利,公开号CN 119742228 A,申请日期为2023年10月。

专利摘要显示,一种制造半导体装置的方式包含提供基板,在基板中形成第一沟槽,第一沟槽的顶部宽度大于第一沟槽的底部宽度,在第一沟槽的一侧形成阱与源极区,源极区在阱上,沿着基板的表面形成硬遮罩堆叠,在硬遮罩堆叠中形成第二沟槽,且第二沟槽的底部位于第一沟槽的转角的上方,进行离子植入工艺,以在基板靠近第一沟槽的转角的区域形成遮蔽掺杂区,移除硬遮罩堆叠,沿着基板的表面形成栅极介电层,且栅极介电层覆盖遮蔽掺杂区,以及在第一沟槽中形成栅极。本发明的一些实施方式可用于形成上宽下窄的栅极,因此在栅极的转角处形成的遮蔽掺杂区不容易遮挡住电子流的路径,从而降低半导体装置的电阻。

来源:金融界

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