浙江光特申请包含嵌入式金属接触的隔离深槽制备方法专利 简化流程
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2025-08-06 13:18:38
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金融界2025年8月6日消息，国家知识产权局信息显示，浙江光特科技有限公司申请一项名为“一种包含嵌入式金属接触的隔离深槽的制备方法”的专利，公开号CN120432434A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明涉及光电探测器件技术领域，尤其涉及一种包含嵌入式金属接触的隔离深槽的制备方法。本发明所述制备方法在制备得到第一深槽结构之后，得到第五中间结构之前不需要进行额外的光刻步骤，巧妙地利用了掩膜材料层的生长和定向刻蚀即可达到以下效果：1、在第一深槽结构的底部区域自动对准的掺杂层；2、在第一深槽结构的底部制备自动对准的第二深槽结构；3、精准控制金属埋层的接触面积和第二深槽结构的宽度；4、掩膜材料层以及金属埋层能够选择性的填充在需要的位置。因此，本发明所述制备方法能够简化流程，降低生产成本，达到嵌入式金属接触+深槽隔离一体化的目的。高效、可靠且适用于规模化生产。
天眼查资料显示，浙江光特科技有限公司，成立于2016年，位于绍兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江光特科技有限公司参与招投标项目10次，专利信息79条，此外企业还拥有行政许可2个。
来源：金融界
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