上海为旌半导体申请对焦降噪专利，具有实时统计对焦清晰度的技术效果
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2025-05-19 19:05:59
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金融界2025年5月19日消息，国家知识产权局信息显示，上海为旌半导体有限公司申请一项名为“对焦降噪方法、装置及存储介质”的专利，公开号CN120017965A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请公开了一种对焦降噪方法、装置及存储介质。方法包括：获取多个图像；划分图像为多个区块，确定区块的第一对焦清晰度；以区块为中心区块划分区域，区域包括中心区块和多个相邻区块；基于多个相邻区块与中心区块之间对焦清晰度相似值或距离参数中的一种或全部参数确定中心区块的第二对焦清晰度；多个图像包括第一图像和第二图像，基于第一图像的中心区块的第二对焦清晰度和第二图像的中心区块的第三对焦清晰度，确定第一图像的中心区块的第三对焦清晰度。基于第一图像中多个第三对焦清晰度，确定第一图像的总对焦清晰度。本申请具有实时统计对焦清晰度，快速调整对焦清晰度曲线，提高对焦清晰度曲线的抗噪性的技术效果。
天眼查资料显示，上海为旌半导体有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海为旌半导体有限公司专利信息9条，此外企业还拥有行政许可1个。
来源：金融界
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