京东方申请倒置量子点发光二极管相关专利明显增强未曝光区域残留量子点的去除效果_电子技术

京东方申请倒置量子点发光二极管相关专利明显增强未曝光区域残留量子点的去除效果

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2025-05-20 19:05:55

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金融界2025年5月20日消息，国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“量子点图案化方法、倒置量子点发光二极管的制作方法和倒置量子点发光二极管”的专利，公开号CN120018746A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，本公开涉及一种用于倒置量子点发光二极管的量子点图案化方法、倒置量子点发光二极管的制作方法和倒置量子点发光二极管。根据本公开的量子点图案化方法包括：用有机物对氧化物电子传输层进行处理；在氧化物电子传输层上涂布量子点膜层；曝光交联量子点；以及进行显影去除未曝光区域的量子点膜层。根据本公开的方法，通过使用有机物处理氧化物电子传输层在氧化物电子传输层上形成有机物单分子层，有利于减少量子点与氧化物电子传输层之间的范德华力，明显增强了未曝光区域残留量子点的去除效果。

天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3765252.9195万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了68家企业，参与招投标项目245次，财产线索方面有商标信息776条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可45个。

来源：金融界

企业方法显示量子信息相关京东方氧化物专利区域传输层量子点二极管

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