北方华创微电子申请半导体工艺腔室和设备专利，提高溅射工艺的均一性
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2025-11-29 11:37:04
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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺腔室和半导体工艺设备”的专利，公开号CN121023438A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本申请涉及一种半导体工艺腔室和半导体工艺设备，该半导体工艺腔室：腔室主体、内衬组件和基座，腔室主体的顶部用于安装靶材，内衬组件覆盖腔室主体的内壁，用于与靶材和基座围成溅射空间；还包括：内衬安装支架，内衬安装支架置于腔室主体内，用于安装内衬组件；内衬安装支架包括水平调节机构，水平调节机构用于调节内衬组件的水平安装位置，以使内衬组件和基座对中。本申请的技术方案，在半导体腔室内设置独立于腔室主体的内衬安装支架，通过内衬安装支架安装内衬组件，并在内衬安装支架上设置水平调节机构，以在内衬组件安装后对内衬组件进行主动的对中调节，从而提高溅射工艺的均一性，提高产品质量。
天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1264次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。
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来源：市场资讯
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