华为申请存储阵列及其制备方法等专利 提高存储器的存储密度
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2025-05-22 18:09:26
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金融界2025年5月22日消息，国家知识产权局信息显示，华为技术有限公司申请一项名为“存储阵列及其制备方法、存储器、电子设备”的专利，公开号CN120021375A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，本申请实施例提供一种存储阵列及其制备方法、存储器、电子设备，涉及半导体存储技术领域，用于提高存储器的存储密度，简化存储器的制备工艺。该存储阵列衬底和多个存储层，多个存储层沿垂直于衬底的第一方向堆叠设置；存储层包括多个存储单元，存储单元包括可控晶闸管，可控晶闸管包括有源图案、栅极、第一极和第二极。其中，沿第一方向，栅极位于有源图案的至少一侧，且与有源图案相绝缘；第一极沿第一方向延伸；有源图案围设在第一极的周侧，且与第一极电连接；第二极与有源图案同层设置，且与有源图案相连；有源图案位于第一极与第二极之间。该存储阵列应用至存储器中，以提高存储器的性能。
天眼查资料显示，华为技术有限公司，成立于1987年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本4094113.182万人民币。通过天眼查大数据分析，华为技术有限公司共对外投资了52家企业，参与招投标项目5000次，财产线索方面有商标信息5000条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可1537个。
来源：金融界
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